Precursors for deposition of metal, metal nitride and metal oxide based films of transition metals

WO2018098455 Art A2 31. Mai 2018

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018098455
Aktenzeichen: EP17874362
Anmeldetag: 28. November 2017
Veröffentlichung: 31. Mai 2018
Rechtsraum: WO
IPC: C07F5/00C23C16/18C23C16/455C23C16/34C23C16/40

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Applied Materials, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik Organische Chemie

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