Mask blank, mask for transfer, method for manufacturing mask for transfer, and method for manufacturing semiconductor device
WO2018100958
Art A1
7. Juni 2018
Anmelder: HOYA Corporation, Hoya Electronics Singapore Pte. Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2018100958
- Aktenzeichen
- EP17875528
- Anmeldetag
- 1. November 2017
- Veröffentlichung
- 7. Juni 2018
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F1/54G03F1/32G03F1/72H01L21/3065
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- HOYA Corporation
Hoya Electronics Singapore Pte. Ltd. - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Hoya
Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.
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