Compound, resin, composition, resist pattern forming method, and circuit pattern forming method
WO2018101377
Art A1
7. Juni 2018
Anmelder: Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2018101377
- Aktenzeichen
- EP17876279
- Anmeldetag
- 30. November 2017
- Veröffentlichung
- 7. Juni 2018
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C07C43/23C07C43/295C07D311/78C08G8/08C08L61/04G03F7/004G03F7/038G03F7/039G03F7/11G03F7/20H01L21/027
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Mitsubishi Gas Chemical Company
Japanisches Chemieunternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Fokus auf technische Kunststoffe, Methanol und Spezialchemikalien. Der Konzern beliefert unter anderem die Elektronik- und Verpackungsindustrie.
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