Photosensitive resin composition, photosensitive resin laminate, resin pattern production method, and cured film pattern production method

WO2018105532 Art A1 14. Juni 2018

Anmelder: Asahi Kasei Kabushiki Kaisha 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018105532
Aktenzeichen: EP17877849
Anmeldetag: 1. Dezember 2017
Veröffentlichung: 14. Juni 2018
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/031G03F7/004G03F7/027G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Asahi Kasei Kabushiki Kaisha
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Asahi Kasei

Asahi Kasei ist ein japanischer Mischkonzern mit Sitz in Tokio, der in den Bereichen Chemie und Kunststoffe, Wohnungsbau sowie Medizintechnik tätig ist. Das 1922 gegründete Unternehmen zählt zu den größten Chemiekonzernen Japans.

1.961 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von