Release layer production method
WO2018105674
Art A1
14. Juni 2018
Anmelder: Nissan Chemical Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2018105674
- Aktenzeichen
- EP17879538
- Anmeldetag
- 7. Dezember 2017
- Veröffentlichung
- 14. Juni 2018
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- B05D7/24B05D3/02B05D5/00C08G73/10H01L21/336H01L29/786
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Nissan Chemical Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Nissan Chemical Corporation
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, das agrochemische Wirkstoffe, elektronische Materialien sowie Feinchemikalien für die Halbleiterindustrie herstellt. Das Unternehmen wurde 1887 gegründet und hieß bis 2015 Nissan Chemical Industries.
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