Radiation source apparatus and method, lithographic apparatus and inspection apparatus

WO2018108468 Art A1 21. Juni 2018

Anmelder: Universiteit van Amsterdam, Stichting VU, Stichting voor Fundamenteel Onderzoek der Materie, ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018108468
Aktenzeichen: EP17803912
Anmeldetag: 22. November 2017
Veröffentlichung: 21. Juni 2018
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20H05G2/00

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen: Universiteit van Amsterdam
Stichting VU
Stichting voor Fundamenteel Onderzoek der Materie
ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Optik & Fototechnik

Vertreten von