Method for monitoring a characteristic of illumination from a metrology apparatus

WO2018108499 Art A1 21. Juni 2018

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018108499
Aktenzeichen: EP17804188
Anmeldetag: 27. November 2017
Veröffentlichung: 21. Juni 2018
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G03F9/00G01N21/956

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

Vertreten von