Method for manufacturing oxide semiconductor device

WO2018109996 Art A1 21. Juni 2018

Anmelder: V Technology Co., Ltd., Tohoku University 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018109996
Aktenzeichen: EP17882192
Anmeldetag: 4. September 2017
Veröffentlichung: 21. Juni 2018
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/336H01L21/20H01L21/268H01L21/28H01L21/324H01L29/786

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: V Technology Co., Ltd.
Tohoku University
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 V Technology

V Technology ist ein japanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für Displays und Halbleiter. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Optik und Fototechnik, ergänzt um Fertigungs- und Messtechnik. Anmeldungen laufen von 2005 bis in die Gegenwart.

349 Patente in unserer Datenbank

🇯🇵 Tohoku University

Staatliche Universität in Sendai, Japan, mit Forschungsschwerpunkten unter anderem in Materialwissenschaften und Werkstofftechnik.

2.159 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von