Substrate treatment device, substrate treatment method, and storage medium

WO2018110301 Art A1 21. Juni 2018

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018110301
Aktenzeichen: EP17881479
Anmeldetag: 30. November 2017
Veröffentlichung: 21. Juni 2018
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/306H01L21/304

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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