Metrology sensor, lithographic apparatus and method for manufacturing devices
WO2018114152
Art A1
28. Juni 2018
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2018114152
- Aktenzeichen
- EP17797956
- Anmeldetag
- 15. November 2017
- Veröffentlichung
- 28. Juni 2018
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F7/20G03F9/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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