Coating process method, computer storage medium, and coating process device

WO2018116745 Art A1 28. Juni 2018

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018116745
Aktenzeichen: EP17883817
Anmeldetag: 24. November 2017
Veröffentlichung: 28. Juni 2018
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027B05C11/08B05D1/36B05D1/40B05D3/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Verfahrens- & Trenntechnik

Vertreten von