Active light sensitive or radiation sensitive resin composition, active light sensitive or radiation sensitive film, pattern forming method, and method for producing electronic device

WO2018116915 Art A1 28. Juni 2018

Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018116915
Aktenzeichen: EP17882399
Anmeldetag: 12. Dezember 2017
Veröffentlichung: 28. Juni 2018
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/038G03F7/004G03F7/039G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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