Active light sensitive or radiation sensitive resin composition, active light sensitive or radiation sensitive film, pattern forming method, method for producing electronic device and photoacid generator

WO2018116916 Art A1 28. Juni 2018

Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018116916
Aktenzeichen: EP17882991
Anmeldetag: 12. Dezember 2017
Veröffentlichung: 28. Juni 2018
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C08F220/26C09K3/00G03F7/038G03F7/039G03F7/20C07C309/12C07C309/17C07C309/19C07C381/12

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: FUJIFILM Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

21.764 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik Organische Chemie

Vertreten von