Gas injection system for ion beam device

WO2018118263 Art A1 28. Juni 2018

Anmelder: Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018118263
Aktenzeichen: EP17883858
Anmeldetag: 10. November 2017
Veröffentlichung: 28. Juni 2018
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/32H01J37/02H01J37/305

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc.

Varian Semiconductor Equipment Associates war ein US-amerikanischer Hersteller von Halbleiteranlagen, seit 2011 Teil von Applied Materials. Die Patente betreffen Ionenimplantation und Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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