Methods of determining scattering of radiation by structures of finite thicknesses on a patterning device

WO2018121967 Art A1 5. Juli 2018

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018121967
Aktenzeichen: EP17809304
Anmeldetag: 6. Dezember 2017
Veröffentlichung: 5. Juli 2018
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G03F1/36

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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