Washing agent composition for substrate for semiconductor device

WO2018123889 Art A1 5. Juli 2018

Anmelder: Kao Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018123889
Aktenzeichen: EP17888604
Anmeldetag: 22. Dezember 2017
Veröffentlichung: 5. Juli 2018
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/304C11D3/04C11D3/20C11D3/34C11D7/08C11D7/26C11D7/34C11D17/08

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Kao Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Kao

Japanischer Konsumgüter und Chemiekonzern mit Sitz in Tokio. Kao entwickelt Produkte und Technologien für Körperpflege, Kosmetik, Haushaltsreiniger sowie chemische Spezialstoffe.

4.599 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von