Etching method and etching device
WO2018128078
Art A1
12. Juli 2018
Anmelder: Central Glass Company, Limited 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2018128078
- Aktenzeichen
- EP17889898
- Anmeldetag
- 20. Dezember 2017
- Veröffentlichung
- 12. Juli 2018
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/3065H01L21/3205H01L21/3213H01L21/768H01L23/532
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Central Glass Company, Limited
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Central Glass
Japanisches Unternehmen mit Sitz in Tokio, das Flachglas, Spezialglas sowie Fluorchemikalien für Industrie und Bauwesen herstellt.
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Fachgebiete
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