Method, apparatus, and target for material deposition on a substrate in a vacuum deposition process

WO2018128634 Art A1 12. Juli 2018

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018128634
Aktenzeichen: EP17702188
Anmeldetag: 9. Januar 2017
Veröffentlichung: 12. Juli 2018
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/56C23C14/34C23C14/35H01J37/34

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Applied Materials, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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