Amide Solvent-Containing Resist Underlayer Film-Forming Composition

WO2018131562 Art A1 19. Juli 2018

Anmelder: Nissan Chemical Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018131562
Aktenzeichen: EP18739178
Anmeldetag: 9. Januar 2018
Veröffentlichung: 19. Juli 2018
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/11C08G12/34G03F7/20G03F7/26H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nissan Chemical Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nissan Chemical Corporation

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, das agrochemische Wirkstoffe, elektronische Materialien sowie Feinchemikalien für die Halbleiterindustrie herstellt. Das Unternehmen wurde 1887 gegründet und hieß bis 2015 Nissan Chemical Industries.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

Vertreten von