Porous polyurethane polishing pad and method for manufacturing same

WO2018131868 Art A1 19. Juli 2018

Anmelder: SKC Co., Ltd. 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018131868
Aktenzeichen: EP18739011
Anmeldetag: 9. Januar 2018
Veröffentlichung: 19. Juli 2018
Rechtsraum: WO
IPC: B24B37/24H01L21/304C08L75/04C08J9/38C08J9/00B29C44/02

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: SKC Co., Ltd.
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 SKC

SKC ist ein südkoreanischer Chemie- und Materialkonzern, Teil der SK-Gruppe, mit Schwerpunkt Kunststofffolien und Halbleitermaterialien. Der Patentbestand konzentriert sich auf Kunststoff- und Polymertechnik sowie Fertigungs- und Optiktechnik.

319 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

Vertreten von