Defect pattern grouping method and system

WO2018134286 Art A1 26. Juli 2018

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018134286
Aktenzeichen: EP18702148
Anmeldetag: 18. Januar 2018
Veröffentlichung: 26. Juli 2018
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G05B19/418G06T7/00G01N21/956

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik Software & Datenverarbeitung Steuerungs- & Regelungstechnik

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