Method for producing hydrogen gas, and method for producing semiconductor device

WO2018135144 Art A1 26. Juli 2018

Anmelder: Hitachi Chemical Company, Ltd., National University Corporation Hokkaido University 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018135144
Aktenzeichen: EP17892251
Anmeldetag: 29. November 2017
Veröffentlichung: 26. Juli 2018
Rechtsraum: WO
IPC: C01B3/04C25B1/04C25B11/04C25B11/06H01L31/0256H01L31/072

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Hitachi Chemical Company, Ltd.
National University Corporation Hokkaido University
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi Chemical

Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen, das Materialien für Halbleiter, Batterien und Verbundwerkstoffe herstellte. Ging nach mehreren Umfirmierungen im Konzern Resonac auf.

2.257 Patente in unserer Datenbank

🇯🇵 National University Corporation Hokkaido University

Staatliche japanische Universität in Sapporo mit breiter Forschung, u.a. in Agrarwissenschaften, Ingenieurwesen und Materialwissenschaften.

882 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von