Antenna, plasma processing device and plasma processing method

WO2018135307 Art A1 26. Juli 2018

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018135307
Aktenzeichen: EP18741142
Anmeldetag: 4. Januar 2018
Veröffentlichung: 26. Juli 2018
Rechtsraum: WO
IPC: H05H1/46H01L21/3065

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von