Polishing pad and method for producing same

WO2018135878 Art A1 26. Juli 2018

Anmelder: SKC Co., Ltd. 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2018135878
Aktenzeichen
EP18741572
Anmeldetag
18. Januar 2018
Veröffentlichung
26. Juli 2018
Rechtsraum
WO
IPC
B24D18/00B24B37/22B24B37/20B24B37/26B24B37/04B24B57/02H01L21/306
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
SKC Co., Ltd.
Land
🇰🇷 Südkorea
🇰🇷 SKC

SKC ist ein südkoreanischer Chemie- und Materialkonzern, Teil der SK-Gruppe, mit Schwerpunkt Kunststofffolien und Halbleitermaterialien. Der Patentbestand konzentriert sich auf Kunststoff- und Polymertechnik sowie Fertigungs- und Optiktechnik.

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