Post-etch residue removal for advanced node beol processing

WO2018136466 Art A1 26. Juli 2018

Anmelder: Entegris, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018136466
Aktenzeichen: EP18706881
Anmeldetag: 17. Januar 2018
Veröffentlichung: 26. Juli 2018
Rechtsraum: WO
IPC: C23G1/24C23G1/20H01L21/02H01L21/768C11D11/00G03F7/42C23G1/18C23G1/26C09K13/08

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Entegris, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Entegris

US-amerikanischer Hersteller von Spezialmaterialien und Filtrationslösungen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Massachusetts.

899 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik Optik & Fototechnik

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