Current-Induced Dark Layer Formation For Metallization in Electronic Devices

WO2018136579 Art A1 26. Juli 2018

Anmelder: H.C. Starck Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018136579
Aktenzeichen: EP18741785
Anmeldetag: 18. Januar 2018
Veröffentlichung: 26. Juli 2018
Rechtsraum: WO
IPC: H01L27/12H01L29/786H01L21/02G02F1/1333

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: H.C. Starck Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇩🇪 H.C. Starck

H.C. Starck ist ein deutsches Unternehmen für Spezialmetalle und Werkstoffe wie Tantal und Wolfram mit Sitz in Goslar. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Metallurgie und Oberflächentechnik sowie Halbleiterwerkstoffe, ergänzt durch Fertigungs- und Chemietechnik. Die Anmeldungen stammen aus den Jahren 2000 bis 2019.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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