Method of preferential silicon nitride etching using sulfur hexafluoride

WO2018136652 Art A1 26. Juli 2018

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018136652
Aktenzeichen: EP18741608
Anmeldetag: 18. Januar 2018
Veröffentlichung: 26. Juli 2018
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/3065H01L21/3213H01L21/02

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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