Method and apparatus for measuring a structure on a substrate

WO2018137925 Art A1 2. August 2018

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018137925
Aktenzeichen: EP18700984
Anmeldetag: 10. Januar 2018
Veröffentlichung: 2. August 2018
Rechtsraum: WO
IPC: G01B11/24G03F9/00G01B17/06

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

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