Photosensitive conductive film, conductive pattern formation method, conductive pattern substrate production method, conductive pattern substrate, and touch panel sensor

WO2018138879 Art A1 2. August 2018

Anmelder: Hitachi Chemical Company, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018138879
Aktenzeichen: EP17893686
Anmeldetag: 27. Januar 2017
Veröffentlichung: 2. August 2018
Rechtsraum: WO
IPC: H01B5/14B32B27/12G03F7/004G03F7/027G06F3/041G06F3/044

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi Chemical Company, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi Chemical

Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen, das Materialien für Halbleiter, Batterien und Verbundwerkstoffe herstellte. Ging nach mehreren Umfirmierungen im Konzern Resonac auf.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik Software & Datenverarbeitung Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

Vertreten von