Insulation covered conductive particles, anisotropic conductive film, method for producing anisotropic conductive film, connection structure and method for producing connection structure
WO2018139552
Art A1
2. August 2018
Anmelder: Hitachi Chemical Company, Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2018139552
- Aktenzeichen
- EP18745072
- Anmeldetag
- 25. Januar 2018
- Veröffentlichung
- 2. August 2018
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01B5/00C09J9/02H01B1/00H01B5/16H01B13/00H01R11/01H01R43/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Hitachi Chemical Company, Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Hitachi Chemical
Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen, das Materialien für Halbleiter, Batterien und Verbundwerkstoffe herstellte. Ging nach mehreren Umfirmierungen im Konzern Resonac auf.
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Vertreten von
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