Isotropic etching of film with atomic layer control

WO2018140493 Art A1 2. August 2018

Anmelder: LAM Research Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018140493
Aktenzeichen: EP18745010
Anmeldetag: 24. Januar 2018
Veröffentlichung: 2. August 2018
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/3065H01L21/02H01L21/3213H01J37/32

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: LAM Research Corporation
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von