Approach to bottom dielectric isolation for vertical transport fin field effect transistors
WO2018142233
Art A1
9. August 2018
Anmelder: International Business Machines Corporation 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2018142233
- Aktenzeichen
- EP18748356
- Anmeldetag
- 17. Januar 2018
- Veröffentlichung
- 9. August 2018
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/28
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- International Business Machines Corporation
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
IBM
US-amerikanischer Technologiekonzern mit Sitz in Armonk, New York. International Business Machines entwickelt Hardware, Software, Cloud-Dienste sowie Lösungen für künstliche Intelligenz, Halbleiter und Unternehmens-IT.
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Fachgebiete
Vertreten von
Graham, Timothy Abbey
Winchester, Großbritannien
80
Patente gesamt
9
Fachgebiete
4
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