Substrate processing device, substrate processing system, and substrate processing method
WO2018142715
Art A1
9. August 2018
Anmelder: SCREEN Holdings Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2018142715
- Aktenzeichen
- EP17895321
- Anmeldetag
- 14. November 2017
- Veröffentlichung
- 9. August 2018
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/027H01L21/302H01L21/304
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- SCREEN Holdings Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
SCREEN Holdings
Japanischer Technologiekonzern. SCREEN Holdings stellt Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie her, insbesondere Wafer-Reinigungs- und Beschichtungssysteme, sowie Druck- und Bildverarbeitungstechnik.
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