Substrate treatment method, computer storage medium, and substrate treatment system

WO2018142840 Art A1 9. August 2018

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018142840
Aktenzeichen: EP18747566
Anmeldetag: 4. Januar 2018
Veröffentlichung: 9. August 2018
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G03F7/26G03F7/38H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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