Electrolytic treatment device and electrolytic treatment method

WO2018142955 Art A1 9. August 2018

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018142955
Aktenzeichen: EP18747793
Anmeldetag: 18. Januar 2018
Veröffentlichung: 9. August 2018
Rechtsraum: WO
IPC: C25D17/10C25D5/18C25D7/12C25D17/00C25D17/06C25D17/08C25D21/00C25D21/12

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von