Oxide semiconductor film, thin film transistor, oxide sintered body, and sputtering target
WO2018143005
Art A1
9. August 2018
Anmelder: Idemitsu Kosan Co., Ltd 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2018143005
- Aktenzeichen
- EP18748444
- Anmeldetag
- 23. Januar 2018
- Veröffentlichung
- 9. August 2018
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C23C14/34C04B35/01C23C14/08H01B1/08H01L21/363
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Idemitsu Kosan Co., Ltd
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Idemitsu Kosan
Japanisches Energie- und Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Aktiv in Mineralölverarbeitung, petrochemischen Produkten, Schmierstoffen sowie Materialien für organische Leuchtdioden (OLED).
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