Compound, substrate for pattern formation, photodegradable coupling agent, pattern formation method, and transistor production method

WO2018143173 Art A1 9. August 2018

Anmelder: Nikon Corporation, Kanagawa University 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018143173
Aktenzeichen: EP18748258
Anmeldetag: 30. Januar 2018
Veröffentlichung: 9. August 2018
Rechtsraum: WO
IPC: C07F7/18H01L21/28H01L21/288H01L21/336H01L29/417H01L29/423H01L29/49H01L29/786

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen: Nikon Corporation
Kanagawa University
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

3.320 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Organische Chemie

Vertreten von