Apparatus and method for continuous evaporation having substrates side by side
WO2018144107
Art A1
9. August 2018
Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2018144107
- Aktenzeichen
- EP17895093
- Anmeldetag
- 27. November 2017
- Veröffentlichung
- 9. August 2018
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L51/56H01L51/00H01L21/02
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Applied Materials, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Applied Materials
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.
10.780 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Kein Vertreter erfasst.