Vorrichtung und Verfahren zur Thermischen Behandlung eines Substrates mit einer Gekühlten Schirmplatte

WO2018149840 Art A2 23. August 2018

Anmelder: Aixtron SE 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018149840
Aktenzeichen: EP18705877
Anmeldetag: 14. Februar 2018
Veröffentlichung: 23. August 2018
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/54C23C14/04

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Aixtron SE
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Aixtron

Aixtron ist ein deutscher Hersteller von Depositionsanlagen für die Halbleiterindustrie. Der Patentbestand konzentriert sich auf Metallurgie und Oberflächentechnik sowie Halbleiterbauelemente, ergänzt durch Verfahrens- und Messtechnik. Die Anmeldungen aus 2000 bis 2025 betreffen unter anderem die Reinigung und den Betrieb von CVD-Reaktoren.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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