Photosensitive resin composition, cured film and production method therefor, and electronic component

WO2018150771 Art A1 23. August 2018

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018150771
Aktenzeichen: EP18753788
Anmeldetag: 12. Januar 2018
Veröffentlichung: 23. August 2018
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C08F8/30C08G83/00G03F7/023G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

1.781 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

Vertreten von