Gas processing device and substrate processing device

WO2018150979 Art A1 23. August 2018

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018150979
Aktenzeichen: EP18754804
Anmeldetag: 7. Februar 2018
Veröffentlichung: 23. August 2018
Rechtsraum: WO
IPC: B01D53/18B01D53/46B01D53/58B01D53/68B01D53/72B01D53/78H01L21/304

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Verfahrens- & Trenntechnik

Vertreten von