Multilayer semiconductor integrated circuit device
WO2018151066
Art A1
23. August 2018
Anmelder: Keio University 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2018151066
- Aktenzeichen
- EP18754709
- Anmeldetag
- 13. Februar 2018
- Veröffentlichung
- 23. August 2018
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/8238H01L21/3205H01L21/768H01L21/822H01L21/8234H01L23/522H01L27/00H01L27/04H01L27/06H01L27/088H01L27/092
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Keio University
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Keio University
Die Keio University ist eine private Universität in Tokio, Japan, die in zahlreichen Fachrichtungen von Wirtschaft bis Ingenieurwissenschaften lehrt und forscht.
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