Electrode plate for plasma processing apparatuses and method for regenerating electrode plate for plasma processing apparatuses

WO2018151137 Art A1 23. August 2018

Anmelder: Mitsubishi Materials Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018151137
Aktenzeichen: EP18754592
Anmeldetag: 14. Februar 2018
Veröffentlichung: 23. August 2018
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/42C04B41/87H01L21/3065H01L21/31

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Mitsubishi Materials Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsubishi Materials

Japanisches Unternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Sitz in Tokio, tätig in der Verarbeitung von Metallen und Werkstoffen, unter anderem Kupfer, Zement, Hartmetallwerkzeuge und elektronische Materialien.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von