Method and apparatus of remote plasmas flowable cvd chamber

WO2018152126 Art A1 23. August 2018

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018152126
Aktenzeichen: EP18754543
Anmeldetag: 13. Februar 2018
Veröffentlichung: 23. August 2018
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/32C23C16/44C23C16/505

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Applied Materials, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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