Negative Photosensitive Resin Composition

WO2018155016 Art A1 30. August 2018

Anmelder: Zeon Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018155016
Aktenzeichen: EP18758413
Anmeldetag: 17. Januar 2018
Veröffentlichung: 30. August 2018
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C08F232/08G03F7/031G03F7/032G03F7/038

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Zeon Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Zeon

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Zeon Corporation entwickelt synthetische Kautschuke, Spezialchemikalien und Elastomere für Anwendungen in Automobil-, Elektronik- und Batterieindustrie.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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