Mask blank, method for manufacturing transfer mask, and method for manufacturing semiconductor device

WO2018155047 Art A1 30. August 2018

Anmelder: HOYA Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018155047
Aktenzeichen: EP18757897
Anmeldetag: 24. Januar 2018
Veröffentlichung: 30. August 2018
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/48G03F1/20G03F1/24

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: HOYA Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hoya

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.

1.653 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von