Photosensitive Resin Composition
WO2018155188
Art A1
30. August 2018
Anmelder: Zeon Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2018155188
- Aktenzeichen
- EP18757548
- Anmeldetag
- 7. Februar 2018
- Veröffentlichung
- 30. August 2018
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F7/023C08F12/24C08F20/10G03F7/004H01L51/50H05B33/22
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Zeon Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Zeon
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Zeon Corporation entwickelt synthetische Kautschuke, Spezialchemikalien und Elastomere für Anwendungen in Automobil-, Elektronik- und Batterieindustrie.
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