Photosensitive Resin Composition

WO2018155188 Art A1 30. August 2018

Anmelder: Zeon Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2018155188
Aktenzeichen
EP18757548
Anmeldetag
7. Februar 2018
Veröffentlichung
30. August 2018
Rechtsraum
WO
IPC
G03F7/023C08F12/24C08F20/10G03F7/004H01L51/50H05B33/22
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Zeon Corporation
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Zeon

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Zeon Corporation entwickelt synthetische Kautschuke, Spezialchemikalien und Elastomere für Anwendungen in Automobil-, Elektronik- und Batterieindustrie.

2.552 Patente in unserer Datenbank

Vertreten von

Kein Vertreter erfasst.

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen