Substrate processing device and processing system

WO2018155478 Art A1 30. August 2018

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018155478
Aktenzeichen: EP18757066
Anmeldetag: 21. Februar 2018
Veröffentlichung: 30. August 2018
Rechtsraum: WO
IPC: H01L43/12C23C14/58H01L21/26H01L21/324H01L21/677H01L21/8239H01L27/105

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von