Electron beam apparatus and exposure method, and device production method

WO2018155542 Art A1 30. August 2018

Anmelder: Nikon Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018155542
Aktenzeichen: EP18758197
Anmeldetag: 22. Februar 2018
Veröffentlichung: 30. August 2018
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027G03F7/20H01J37/305

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nikon Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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