Electron source and electron beam device using same

WO2018159056 Art A1 7. September 2018

Anmelder: Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018159056
Aktenzeichen: EP17899146
Anmeldetag: 8. Dezember 2017
Veröffentlichung: 7. September 2018
Rechtsraum: WO
IPC: H01J1/15H01J1/16H01J9/04H01J37/06

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi High-Technologies Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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